-
《电子显微分析》知识点总结
第一讲
电子光学基础
1
、
电子显微分析特点
2
、
Airy
斑概念
3
、
Rayleigh
准则
4
、
光学显
微镜极限分辨率大小:半波长,
200nm
5
、
电子波的速度、波长推导公式
6
、
光学显
微镜和电子显微镜的不同之处:光源不同、透镜不同、环境不同
7
、
电磁透镜的像差产生原因,如何消除和减少像差。
8
、
影响光
学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素,如何提高电磁透镜的分辨率
9
、
电子波的特征,与可见光的异同
第二讲
TEM
1
、
TEM
的基本构造
2
、
TEM
中实现电子显微成像模式与电子衍射模式操作
第三讲
电子衍射
1
、
电子衍射的基本公式推导过程
2
、
衍射花样的分类:斑点花样、菊池线花样、会聚束花样
3
、
透射电子显微镜图像衬度,各自的成像原理。
第四讲
TEM
制样
1
、
粉末样品制备步骤
2
、
块状样品制备减薄的方法
3
、
块状脆性样品制备减薄——离子减薄
4
、
塑料样品制备——离子减薄
5
、
复型的概念、分类
第五讲
SEM
1
、
电子束入射固体样品表面会激发的信号、特点和用途
2
、
SEM
工作原理
3
、
SEM
的组成
4
、
SEM
的成像衬度:二次电子表面形貌衬度、背散射电子原子序数衬度、吸收电子像的衬
度、
X
射线图像的衬度
第六讲
EDS
和
WDS
1
、
EDS
探测系统——锂漂移硅固体探测器
2
、
EDS
与
WDS
的优缺点
第七讲
EBSD
1
、
EBSD
的应用
第八讲
其它电子显微分析方法
1
、各种设备的缩写形式
历年考题
透射电镜的图像衬度有
非晶样品质厚衬度
,
薄晶体样品的衍射衬度
,
相位衬度
。
一、我校材料分析中心现有的两台场发射电子显微镜有哪些主要的功能附件可以进行哪方
面的分析工作
答:
1
、
场发射扫描电子显微镜
仪器型号:
SUPRA 55
生产厂家:德国
ZEISS
功能附件:
5
92
(
1
)
配备
Oxford
INCA EDS
设备,
可以对
B-
U
的元素进行微区成分定性、
定量分析
,
包括点、线、面成分的分析;
(
2
)
配备
HKL EBSD
设备,可以对材料进行取向、织构及物相鉴定
,晶体学结构分析,
p>
相位及相位差分析,应变分析;
(
3
)
配备拉伸弯曲台,可以在扫描电镜内对试
样做拉伸、压缩和弯曲试验,同时原位
观察组织变化。
用途:可用于金属、非金属、半导体、地质、矿物、冶金、考古、生物等材料的显微形
态,
断口形貌的分析研究;
也可进行各种样品的
高分辨成像以及配合能谱仪进行微区元素分
析,配备电子背散射衍射(
< br>EBSD
)附件,可对晶体材料进行晶体取向、织构、以及物相鉴定
等分析研究。
2
2
、
场发射透射电子显微镜
仪器型号:
TECNAI F30
G
生产厂家:美国
FEI
公司
功能附件:
(
1
)配备
EDS
设备,可以进行微区
成分定性定量分析,
包括点、线、面成分的分析
;
(
2
)配备
EELS
,进行电子
-
能量
损失谱分析;
(
3
< br>)配备原位拉伸仪,可以进行原位拉伸观察和三维图像重构分析。
用途:
可以对透射电镜样品进行形貌、
相应选区电子
衍射、
微衍射及相干电子衍射和高
分辨电子显微像观察;配合<
/p>
STEM-HAADF
探针进行原子序数衬度像分析;配合特征<
/p>
X
射
线能谱仪(
EDS
)进行纳米尺度成分分析;配合电子能量损失谱系统(
E
ELS
)进行电子
能量损失谱分析;进行样品原位拉伸观察和三
维图像重构分析。
二、电子束入射固体样品表面会激发哪些信号
它们有哪些特点和用途
答:电子束入射固体样品表面会激发出
背散射电子、二次电子、吸收电子、
透射电子、特
征
X
射线、俄歇电子、电
子束感生电效应、阴极荧光
。
(
p>
1
)
背散射电子:
入射电子与
原子核
发生弹性散射,
能量
损失小,
一般大于
50eV
都称为背<
/p>
散射电子。平均原子序数越大,产生背散射电子越多,
不仅能用于
形貌分析
,还可以用于显
示原子序数衬
度,
定性进行成分分析
;
(
2
)二次电子:
入射电
子与
外层电子
发生非弹性散射,一部分核外电子获得能量逸出试
样
表面,成为二次电子。二次电子能量小,一般小于
50eV<
/p>
,适于
表面形貌
观察;
< br>
(
3
)吸收电子:
入射电子发生非弹性散射次数增多,以致
电子无法逸出试样表面
,在样品
与地之间接电流放大器,
获得电流信号,
吸收电子像衬度与二次电子和背散射电子的总像衬
度相反,适用
于显示试样
元素分布和表面形貌
,尤其是试样
< br>裂纹内部的微观形貌
;
(
p>
4
)透射电子:如果被分析的样品很薄,就会有一部分入射电子穿过
薄样品而成为透射电
子。可进行形貌和成分分析。
(
5
)
特征
X
射线:
入射电子与样品原子
内层电子
作用,
释放出具有特征能量的电磁辐射波,
用于
微区成分分析
;
(
6
)
俄歇电
子:
入射电子与样品原子
内层电子
作用
,
释放能量激发外层某个电子脱离原子,
成为具有特征能量的电
子。
俄歇电子产生于试样表面几个原子层,
对轻元素敏感,
p>
可观测的
最轻元素是
Be
< br>,适用于表面层的
成分分析
,尤其是对轻元素;
(
7
)电子束感生电
效应:
高能量的入射电子进入
半导体
作
用,产生
电子
-
空穴对
,在偏加
电场作用下移动产生电流,
获得电子束感应<
/p>
电压
信号,
用于检测半导体或完整的固体
电路的
导电性变化
;
(
8
)阴极荧光:
电子束感生
电效应产生的
电子
-
空穴对复合
释放出能量以
可见光或红外线
的形式释放,其
信号强弱与半导体掺杂情况单值相关,故可用于
监控半导体掺杂
。
三、要进行断口形貌观察,判断断裂原因,应选用哪种电子
显微分析仪器用什么物理信号
同时要分析断口上某种颗粒相的化学成分,应如何办用哪种
物理信号
请说明理由。
答:
(
1
)
要进行断口形貌观察,选择扫描电子显微镜(
SEM
)
,因为扫描电镜的景深大。
用
二次电
子信号可以观察断口形貌
,二次电子和背散射电子对样品微区刻面相对于入射电子
束的位向十分敏感,
因此它们都能用于显示样品表面形貌特征。
二次电子像的分辨率比背散
射电子像高得多,而且当样品中微区的原子
序数大于
20
时,二次电子的产额随原子序数无
明显变化,
也就是说,
在这种情况下获得的二次电子像
,
其衬度完全表征着样品形貌的特征。
(
2
)
分析断口上某种颗粒的化学成分,可以用
SEM+EDS
或
SEM+WDS
来检测;也可以
用
SEM+EBSD
。
用背散射电子信号
,
背散射电子产额随
元素原子序数
Z
的增大而增大。样品表
面平均原子序数较大的区域,产生较强的信号,在背散射电子像上显示较亮的衬度。因此,
根据背散射电子像
(
成分像
)
亮暗衬度可以判别对应区域平均原子序数的相对高低。
两检测器信号
(二次电子信号和背散射电子信号)
相
减可以获得形貌像,
两信号相加可以获
得成分像。
四、
要
对材料中某种细小的析出相进行形态和结构分析,并观察它对位错运动的作用,应
选用哪种电子显微分析仪器如何进行分析
请说明理由。
答:
< br>选择透射电镜,因为透射电镜分辨率高,可以观察到纳米级的结构。
通过电子透射
和
电子衍射可以观察到细小析出相的形态和结构。
由于位错线的
衬度影响,
电子衍射可以观察
到位错的明暗图像,从而观察它对
位错运动的作用。
五.能谱仪与波谱仪相比,能量分辨率高,
分析速度快,分析精度低。
能谱仪原理:
各种元素具有自己的
X
射线特征波长,
特征波长的大小则取决于能级跃迁过程
中释放出的特征能量△E,能谱仪就是利用不
同元素
X
射线光子特征能量不同这一特点来进
< br>行成分分析的。
能谱分析的特点
:
1
、
速度快,
可在
1~2
分钟之内对
Z?1
1(
或
? 4)
的所有元素进行分析;
2<
/p>
、
灵敏度高
,单位入射电子束强度所产生
的
x
射线计数率达
10
cps/nA
;
3
、工作的电子束流可以较低(
10
A
)
,有利于提高空间分辨率;
4
、结构紧凑,仪器结构简单,操作方便;
5
、适合较粗糙表面的分析工作;
6
、能量分辨率低,低能部分谱线重叠严重;
7
、峰背比低,定量分析精度稍差;
-11
4
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