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原文细晶强化的机理及其应用

作者:高考题库网
来源:https://www.bjmy2z.cn/gaokao
2021-02-12 10:33
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2021年2月12日发(作者:不适用)


原文细晶强化的机理及其应用



细晶强化的机理及其应用



摘要


:


本文讲述了细晶强化的含义及其微观机理


,


介绍了三种推导


Hal



-P



tch


关系式的物< /p>


理模型,并说明了微量碳在钢铁材料中细晶强化时对


H

< p>


l



-P



tch


关系式中σ


0



k


的影


响。本文 还介绍了一种细晶强化金属材料的新方法-不对称挤压法。



关 键词


:


细晶强化


,


all-Pet



h

< p>
关系式


,


位错。



1


引言



通 常金属是由许多晶粒组成的多晶体,晶粒的大小可以用单位体积内晶粒的数目来表



,


数目越多


,


晶粒 越细。实验表明


,


在常温下的细晶粒金属比粗晶粒金属有更高的 强度、硬


度、塑性和韧性。这是因为细晶粒受到外力发生塑性变形可分散在更多的晶粒内 进行,塑


性变形较均匀,应力集中较小


;


此外,晶粒越细,晶界面积越大,晶界越曲折


,


越不利于裂纹


的扩展。故工业上将通过细化晶粒以提高材料强度的方法称为细晶强化。




细晶强化的关键在于晶界对位错滑移的阻滞效应。 位错在多晶体中运动时


,


由于晶界两


侧 晶粒的取向不同


,


加之这里杂质原子较多,也增大了晶界附近的 滑移阻力,因而一侧晶粒


中的滑移带不能直接进入第二个晶粒,而且要满足晶界上形变的 协调性,需要多个滑移系


统同时动作。


这同样导致位错不易穿过 晶界,


而是塞积在晶界处


,


引起了强度 的增高。


可见,


晶界面是位错运动的障碍,

因而晶粒越细小


,


晶界越多,


位错 被阻滞的地方就越多


,


多晶体的


强度就 越高,已经有大量实验和理论的研究工作证实了这一点。另外


,


位错在晶体中是三维


分布的,位错网在滑移面上的线段可以成为位错源

< br>,


在应力的作用下,此位错源不断放出位



,


使晶体产生滑移。位错在运动的过程中,首先必须克服附近位错网的阻碍, 当位错移动


到晶界时,又必须克服晶界的障碍


,


才能使变形由一个晶粒转移到另一个晶粒上,使材料产


生屈服。因此

< p>
,


材料的屈服强度取决于使位错源运动所需的力、位错网给予移动位错的阻 力


和晶界对位错的阻碍大小。晶粒越细小,晶界就越多,障碍也就越大

< br>,


需要加大外力才能使


晶体产生滑移。所以,晶粒越细小


,


材料的屈服强度就越大





细化晶粒是众多材料强化方法中唯 一可在提高强度的同时提高材料塑性、韧性的强化


方法。


其提高 塑性机制为:


晶粒越细


,


在一定体积内 的晶粒数目多,


则在同样塑性变形量下,


变形分散在更多的晶粒 内进行


,


变形较均匀,且每个晶粒中塞积的位错少


,


因应力集中引起


的开裂机会较少,有可能在断裂之 前承受较大的变形量。提高强度机制为:晶界增多,而


晶界上的原子排列不规则,杂质和 缺陷多


,


能量较高


,

< br>阻碍位错的通过。



2


细晶强化的经典理论




一般而言,细晶试样不但强度高,而且韧性也好。所以细晶强化成为金属材料的一种

< br>重要强化方式,


获得了广泛的应用。


在大量试验基础上< /p>


,


建立了晶粒大小与金属强度的定量


关系 的一般表达式为


:




























σ



=


σ


0


+kd


-n





























(1





原文细晶强化的机理及其应用



式中, σy为流变应力,σ



为晶格摩擦力


, d


为晶粒直径


,


k为与材料有关的参数 ,指数n


常取


0.5


。这就是有名的< /p>


Hal


l-


P



tch


公式


,


是由


Ha



l


[1]



P



teh


[



]


两人最先在软钢中针


对屈服强度建立起来的


,

< br>并且后来被证明可广泛应用于各种体心立方、


面心立方及六方结构


金属和合金。大量试验结果已证明,此关系式还可适用于整个流变范围直至断裂,仅常数


σ


0



k

有所不同而己。



Hall



Pet


ch公式是一个很好的经验公式,


可 以从不同的物理模型出发加以推导。



见的模型有以下几种:< /p>




.




位错塞积模型


[3


]



如图


1


所示

,


外加切应力τ较小时


,


由于晶界 的阻碍作用


,


会使晶粒


1


内由位错源


S1


放出


的位错 形成位错塞积


,


可在晶粒


2

< p>
内距其


r


远处产生较大的切应力,其值在


r



d/


2时可写







< br>。


此处τ


0


为位错在晶内运动所 受阻力


,d


为晶粒直径。


若设


τ



为激活位于晶粒2中


r


处的位错源所需的临界切应力


,


则 晶粒


2


的屈服条件可写为:



(2)






















3)




d



r



,


可将上式简 化为


:


(4)


由此可得


:












(5)


若将拉伸屈服 强度σ


y



m


τ


y


表示,则


:


(6)
















(7)



(6)

式中,


m


为一同有效滑移系数量有关的取向因子。有效滑移 系越多,m值越小。在滑


移系数量任意多时


,

< br>取


m=2;


对有


12

< p>
个滑移系的立方晶体取


m=3


.1


.















































































原文细晶强化的机理及其应用










图1



位错塞积引起相邻晶粒中位错源开动示意图




.2


晶界“坎”模型



4]


采用上述模型推导


H



ll -Petch


公式的前提是承认在晶体中存在位错塞积。然而


,



一点至少对


α


-F


e来说尚有争议。至今在


α


-F


e中,只在少数情况下才观察到晶界前的不规


则的位错塞积群< /p>



5]


,而多数情况为不规则的位错缠结


[6]


。为了克服这一困难,


Ja



es



i


[4]


提出一种不需要位错塞积的模型。他认为晶界上的“坎”可以 当作位错的“施主”而放出


位错,其机制示于图


2


。由此可将流变应力视为位错运动克服林位错的阻力


,


并进而求得如


下的Ha


ll-P


e< /p>


r



h


公式


:



































































(



)


< /p>


(8)


式中,S为“坎”的密度


(


单位长度晶界上的“坎”的个数


)



α


为与位错分布有关的


实验待定常数

< p>
(


约为


0.4)















2


晶界中的





发射示意图

< br>



.




晶界区硬化模型



7]


实际上,晶界“坎”模型是着眼于晶界发射位错而构成林位错加工硬化机制,若仅 考


虑晶界附近区域的次滑移和加工硬化效应


,

< br>还可以对


Hal


l-


Pet



h


公式作如下推导:设想


在流变条件下


,


晶界的影响是在晶粒内造成一定宽度(


d


/2


)


的硬 化区,如图


3


所示。晶粒


的强度


σ


要由晶界附近硬区强度


σ

< br>H


和心部软区强度


σ


S


综合决定


,



:








































































原文细晶强化的机理及其应用



(9





又因


:










































































10)




若略去


b


2


,


则将上式代入


(9)


式整理后得


:











































































(


11)



因 式中


σ


H



σ


S


均为与材料有关的常数,故可改用下式表达:




(12






(1



)< /p>


式和


(8


)


式的 主要差别是指数不同


,


故对


Hall- Petch


公式的一般表达式为


(1




指数


n


可介 于


0



45



1



1


之间< /p>


,



0



45<



<1














3


晶界区硬化模型示意图






































































可见H


a


ll-


Perch


公式虽是一个可靠的 经验公式,可从不同的物理模型加以推导


,


< br>确切的物理模型尚难于最后确定。


欲利用


H


al


l-



etch


公式得出屈服、


流变或断裂的微观


结论时


,


需要谨慎对待。



2



4


反常


Hal



-


P e


tc


h关系


[8

]




在传统的租晶材料中


,


其硬度和屈服应力随着晶粒尺


d

< p>
的降低而升高


,


即通常所说的H

< br>al


l



Petch

< p>
效应。但在纳米晶粒材料中.这种效应可能会受到抑制甚至出现相反的变化


趋势。


通常粗晶材料的塑性变形主要是通过位错的运动和相互作用完成的


.


而以上模拟表明


纳米晶粒的变形主要是通过晶界滑移 和位错运动其同主导的,随着构成材料的晶粒的尺寸


逐渐减小,片变形机理从位错运动向 基于晶粒边界滑移的方式转变。而粗晶材料中晶粒边



原文细晶强化的机理及其应用



界通常 是作为位错核的接收器


,


其阻止位错的运动

,


从而提高材料的硬度和屈服应力等。而


在纳米材料中,晶 粒边界成为了位错成核和原干滑移的源头


,


从而起到促进塑性变 形的作


用。这使得H


all-Pe


t< /p>


c


h效应随着晶粒尺寸的减小而失效甚至出现相反的变化趋势



3


.微量碳在细晶强化中的作用



由上文可知k为与材料有关的因子关于


k


的 物理涵义以及合金元素对k的影响


,


许多研

究者曾经做了大量理论与实验研究


[


]



结果表明


,k


强烈地受间隙式溶质原子的影响


,


同时也


受热处理条件影响。但是


,


间隙式溶质原子和热处理 条件影响


k


的原因尚不清楚。本文以高


纯铁为试料,


在尽可能地将材料微观结构


(

晶内与晶界析出


,


晶界偏析等


)< /p>


同一化后系统地研


究微量碳在固溶状态、析出状态和偏析在晶界对


σ



和k的影响,讨论微量碳影响的机 理




3、1



实验材料及方法



实验用





e



5


0C和 F


e-8



C


合金铸锭是以高纯电解铁


(



9.99 5%F e


)为原料


,


采用

< p>
高真空



(6


×


1



-3


< p>


a


)高频感应熔炼


,< /p>



Fe-



.3 %C


中间合金脱氧后注人水冷铜铸型得到的


,

< br>其化学


成分见表


1


。铸锭在高纯 红气保护下加热后,经热锻、冷锻、冷轧和机加工得到宽


1


5< /p>



mm,



6 mm


板材。


为得到不含碳的高纯铁和碳浓度更低的试样,



Fe


一8


0C


合金板材在


70


0℃


流动湿氢和干氢气氛炉内退火不同时间,进行完全脱碳或降低碳量处理


,


所得试料的化学分


析结果示于表1。


.


四种试料的板材在7


0


0℃真空退火


(5


×


10


-2


P



)


后冷轧成厚1



mm


的薄


板,机 加工成平行部宽


3



m,

< p>


20




m


的拉伸试样。试样的热处理条件如表


2

< p>
所示,所有


热处理均在


5


×


10


-



P a


真空炉内进行。


值得指出的是,


与以 往的研究不同


,


本文在调节晶粒尺


寸热 处理后对所有试样进行了微观结构同一化的最终热处理


.





1



试料的化学成分(质量分数


×


10


-1












2


热处理条件











-


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