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英文专有名词介绍

作者:高考题库网
来源:https://www.bjmy2z.cn/gaokao
2021-02-06 01:44
tags:

-

2021年2月6日发(作者:巴士海峡)





英文专有名词介绍












1. General (


一般专有名词


)



英文专有名词



LCD (Liquid Crystal Display)



Glass, substrate or glass substrate



TFT(Thin Film Transistor)



Panel



Array
















明(数字表示有详注)



液晶显示器


*



.



玻璃基版


*



.



薄膜晶体管


*



.



面板




排列


,


指在玻璃基板上做


TFT


的制程






LCD


-Array




Cell



液晶填充制程


.


分为




LCD-FEOL



Cell


前段)








LCD-BEOL



Cell


后段含


Cell Tester




Module






模块


,


指后段组装制程



LCM




Monitor



Pixel



XGA : extended Graphics Array=1024*768Pixels



SXGA : Super XGA=1280*1024Pixels



Computer



Notebook



RGB (Red, Green, Blue)



PM (Preventive Maintenance)



Quality



Standard



Material



Yield



CIM (Computer Integration Manufacturing)



监视器




像素


*



.







PS.


像素越多表示分辨率越高



计算机



































笔记型计算机(简称为


NB




指红绿蓝三原色



预防保养



品质



标准


(


指作业标准或品质指针



)



材料



良率



计算机整合制造(指以计算机系统整合制造流



程)



工厂自动化



出口



预防措施



警告



紧急



警报



FA (Factory Automation)



Exit



Precaution



Warning



Emergency



Alarm









2. Clean Room (



洁净室专有名词



)








英文专有名词































中文说明







Clean room



Particle



HEPA (High Efficient Particulate Air) filter



Contamination



Temperature (TEMP)



Humidity



Pressure



UPW (Ultra-Pure Water)



DIW (De- Ionized Water)



IPA (Isopropyl Alcohol)



Sticky mat



Cleanliness



ESD (Electro-static Discharge)



Laminar flow



Turbulent flow



Alcohol



Acetone



Particle



Dust



Gowning room



Raised floor (grating floor)



Air shower



Prohibit



Clean suit (bunny suit, dust-free garment)



洁净室


***



.



微粒子


***



.



高效能粒子空气过滤网




污染




温度




湿度




压力




超纯水




去离子水




异丙醇




脚踏粘垫


***



.




洁净度





静电破坏


***



.



层流(流体力学名词)




扰流(流体力学名词)




酒精




丙酮




微粒子




灰尘




换衣间


***



.






高架地板


***



.



气浴室


***



.



禁止





无尘衣


***



.



手套




Glove



Hairnet



Hood



Mask



Clean shoes (dust-free shoes, boots)



网帽




头罩




口罩




无尘鞋








3. Factory Automation (



英文专有名



工厂自动化专有名词



)













中文说明





Vehicle



AGV (Automatic Guided Vehicle)



运输工具或载具



自动搬运车





























MGV (Manual Guided Vehicle)



Clean lifter



LIM (Linear Induction Motor) Carrier



人力搬运车






天井传送车



线性感应马达传送载具




OHS (Overhead Shuttle)



Stocker (clean depot)



Battery



Bay



Bumper



Charger



Controller



Conveyor



Crane



FFU (Fan Filter Unit)



Host



I/O (Input / Output)



Inter-bay



Intra- bay



IR (Infra- Red)



IRIF(Infra-Red Inter- Face)



Load



Unload



Magnetic tape



POSEIDON



天车或称轨道车




存放


Cassette(


架子


)


的暂存区




电池




作业区




保险杠




充电器




控制器




输送带





吊车(在


Stocker


内)



风扇过滤器




主机





输入


/


输出



作业区和作业区之间




作业区之内




红外线




红外线接口




进料




卸货











AGV


路径所使用的磁条



海神生产操作系统






Retrieve



RTM (Rotary Transfer Machine)



【计算机】检索



,

< br>撷取


(


资料


)



旋转传送机





SCARA arm




AGV


之传送手臂






Reset



Transportation



重新设定



传输









*



.OPI(Operation POSEIDON Instruction)




海神生产操作系统专有名词介绍






英文专有名词








中文说明







Recipe



Stock out



Request



Transfer



Instruction



程序


,


制程参数




Cassette


取出



请求


,


要求






传送


,


运送



命令


,


指令



选择



Select











Operation



作业


,


操作






Support



Process



Start



Comp.



支持



制程




开始








Completion



的缩写


,


意指完成



























Batch



Lot



ID (Identity)



Sheet



Chip



Inspection



Defect



Production



Hold



Release



Equipment



Tool



WIP (Work In Process)



批量



指生产线上的在制品或产品



,


简称「货」



识别码


(



Lot ID or Chip ID)







(Array


区玻璃基版计数单位


)***



.




(Cell


区玻璃计数单位


)***



.



检验




缺陷




生产




留置在当站制程(如有品质问题时)








hold


住的货放行


,


释出



设备(简称为


EQP




工具


,


机台



在制品(制程在制品)




Maintenance



Cassette



Empty



Reserve



Report



Scrap



Rework



Log on



Log off



Note



维修保养





装在制品的架子


***



.



空的




预约




报告




报废




重工




登帐




除帐




批注











5.



Array


段制程专有名词介绍

























中文说明






Material



Metal



Target



MoW (Moly- tungsten)



材料



金属







钨化钼




Mo (Molybdenum)







Al (Aluminum)



AlNd(Aluminum and Neodymium Alloy)



Reticle or Mask



Detergent (LH-300)






铝和钕的合金以上皆为溅镀机金属靶的材料之一



光罩



界面活性剂的一种(清洗机用来清洗玻璃表面用



LH-300


为供货商型号)




NH4F



HF


,为清洗机用来清洗玻璃表面氧化



的化学溶液



臭氧,主要为各制程用来清除有机物的污染或残留



乙酸正丁酯,主要用来清洗旋转涂布光阻时残留在



玻璃边缘的光阻液



光阻(简称


PR




LAL-50




O


3



Ozone




NBA (1-butyl Acetate)




Resist or Photo Resist



HMDS




Hexamethyldisilazane


的简写,为一种化学中间体,



用以增加光阻涂布时对芯片表面之附着力



带静电防止剂(


ESD- Preventer


),在上光阻机内使



用,防止静电产生,破坏玻璃组件




AC-1







































TMAH (


供货商型号为


KTM-25)



Oxalic Acid (H


2


C


2


O


4


)



DHF



ITO- Etchant



BHF



Al-Etchant



Tetra- Methyl Ammonium Hydroxide


的简写,为厂


内所使用之显影液




草酸,湿蚀刻机中用来蚀刻


5PEP


中的


a-ITO


膜成


份为


49%


氢氟酸


HF


,主要为湿蚀刻机 中用来蚀刻


7PEP


中的


SiNx









成份中含盐酸


HCl


及硝酸


HNO


3


,主要用来蚀刻



7PEP


中的


Poly- ITO



成份中含氟化铵


NH4F< /p>



HF


,主要用来蚀刻

< br> 7PEP






SiON



成份中含乙酸


CH


3


COOH


、磷酸


H


3


PO


4


及硝酸


HNO


3



主要用来蚀刻

< p>
Mo/Al/Mo


的沉积层




异丙醇



Isopropyl


Alcohol


的简称,主要用来作为设


IPA



备擦拭液,在去光阻制程中亦用来清除玻璃基板上


的有机残留物(如 光阻或去光阻液)




N-300



(Process) Gas



SiH


4



NH


3



N


2


O



PH


3



N


2



去光阻液,


N-300


为厂商型号, 成份为单乙醇铵


与单丁醚的混合物




(


制程


)


气体



目前大多数种类的气体,多为提供



CVD



Sputter


及干蚀刻电浆源之用




硅甲烷



制程气体(泄漏有爆炸危险)






制程气体




笑气



制程气体




磷化氢



制程气体




氮气



制程气体,常用为破真空


Vent


或吹干的媒介





H


2



NF


3




氢气



制程气体



氟化氮



制程气体,



常用为清除


CVD


反应室壁沉



积硅


Si


媒介



氪气



制程气体,用来轰击溅镀机上的金属靶



氩气



制程气体,



用来轰击溅镀机上的金属靶或



常用为加热设备的热传媒介



常用来作电浆的基本组成,



氯化硼



制程气体,在干蚀刻中用以作为蚀刻



AlNd


的电浆源



氟化硫



制程气体,



常用的主要干蚀刻电浆源以



为提供蚀刻主原料氟的来源



氦气



制程气体,



混合在其它制程气体中,共同



形成电浆源,使电浆组成分布均匀



氯气



制程气体



氯化氢



制程气体,蚀刻


n+


时的电浆源之一



四氟化碳



制程气体,



常用的主要干蚀刻电浆源



以为提供蚀刻主原料氟的来源



机台


(


仪器


)



厂商



清洗机


***



.



化学气相沉积


***



.



溅镀机


***



.



上光阻机


***



.



预烘


***



.



步进式曝光机


***



.



曝光



背面曝光



Kr



Ar




O


2



BCl


3




SF


6




He




Cl


2



HCl



CF


4




Equipment



Vender



Cleaner



CVD (Chemical Vapor Deposition)



Sputter



Coater



Pre- bake



Stepper



Exposure



Backside-Exposure




Titler




刻号机,厂内部分的显影机具有此功能,



将玻璃基



板的


Chip ID, Glass ID



Veri- Code


曝出,以为人




及机台办认之用



简称


ER


,指在旋转涂布光阻后,用


NBA


洗净残留



在玻璃边缘的光阻



边缘曝光,指在显影前将玻璃基板边缘光阻较厚的



Edge Remover





Edge Exposure




部分再曝光,



以防曝光量不足,



造成光阻在显影后



残留



Developer



Hard bake



Etcher



Wet Etch



显影机


***



.



硬烤


***



.



蚀刻机



湿蚀刻


***



.


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