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英文专有名词介绍
1. General (
一般专有名词
)
英文专有名词
LCD
(Liquid Crystal Display)
Glass, substrate or glass
substrate
TFT(Thin Film
Transistor)
Panel
Array
中
文
说
明(数字表示有详注)
液晶显示器
*
注
.
玻璃基版
*
注
.
薄膜晶体管
*
注
.
面板
排列
,
指在玻璃基板上做
TFT
的制程
LCD
-Array
Cell
液晶填充制程
.
分为
LCD-FEOL
(
Cell
前段)
LCD-BEOL
(
Cell
后段含
Cell Tester
)
Module
模块
,
指后段组装制程
LCM
Monitor
Pixel
XGA :
extended Graphics Array=1024*768Pixels
SXGA : Super
XGA=1280*1024Pixels
Computer
Notebook
RGB
(Red, Green, Blue)
PM
(Preventive Maintenance)
Quality
Standard
Material
Yield
CIM
(Computer Integration Manufacturing)
监视器
像素
*
注
.
PS.
像素越多表示分辨率越高
计算机
笔记型计算机(简称为
NB
)
指红绿蓝三原色
预防保养
品质
标准
(
指作业标准或品质指针
)
材料
良率
计算机整合制造(指以计算机系统整合制造流
程)
工厂自动化
出口
预防措施
警告
紧急
警报
FA (Factory
Automation)
Exit
Precaution
Warning
Emergency
Alarm
2. Clean Room (
洁净室专有名词
)
英文专有名词
中文说明
Clean
room
Particle
HEPA (High Efficient Particulate Air)
filter
Contamination
Temperature (TEMP)
Humidity
Pressure
UPW
(Ultra-Pure Water)
DIW (De-
Ionized Water)
IPA
(Isopropyl Alcohol)
Sticky
mat
Cleanliness
ESD (Electro-static
Discharge)
Laminar
flow
Turbulent
flow
Alcohol
Acetone
Particle
Dust
Gowning
room
Raised floor (grating
floor)
Air shower
Prohibit
Clean
suit (bunny suit, dust-free garment)
洁净室
***
注
.
微粒子
***
注
.
高效能粒子空气过滤网
污染
温度
湿度
压力
超纯水
去离子水
异丙醇
脚踏粘垫
***
注
.
洁净度
静电破坏
***
注
.
层流(流体力学名词)
扰流(流体力学名词)
酒精
丙酮
微粒子
灰尘
换衣间
***
注
.
高架地板
***
注
.
气浴室
***
注
.
禁止
无尘衣
***
注
.
手套
Glove
Hairnet
Hood
Mask
Clean shoes
(dust-free shoes, boots)
网帽
头罩
口罩
无尘鞋
3.
Factory Automation (
英文专有名
工厂自动化专有名词
)
词
中文说明
Vehicle
AGV
(Automatic Guided Vehicle)
运输工具或载具
自动搬运车
MGV (Manual Guided
Vehicle)
Clean
lifter
LIM (Linear Induction
Motor) Carrier
人力搬运车
天井传送车
线性感应马达传送载具
OHS (Overhead Shuttle)
Stocker (clean depot)
Battery
Bay
Bumper
Charger
Controller
Conveyor
Crane
FFU (Fan
Filter Unit)
Host
I/O (Input / Output)
Inter-bay
Intra-
bay
IR (Infra-
Red)
IRIF(Infra-Red Inter-
Face)
Load
Unload
Magnetic
tape
POSEIDON
天车或称轨道车
存放
Cassette(
架子
)
的暂存区
电池
作业区
保险杠
充电器
控制器
输送带
吊车(在
Stocker
内)
风扇过滤器
主机
输入
/
输出
作业区和作业区之间
作业区之内
红外线
红外线接口
进料
卸货
AGV
路径所使用的磁条
海神生产操作系统
Retrieve
RTM
(Rotary Transfer Machine)
【计算机】检索
,
< br>撷取
(
资料
)
旋转传送机
SCARA
arm
AGV
之传送手臂
Reset
Transportation
重新设定
传输
*
注
.OPI(Operation
POSEIDON Instruction)
海神生产操作系统专有名词介绍
英文专有名词
中文说明
Recipe
Stock
out
Request
Transfer
Instruction
程序
,
制程参数
将
Cassette
取出
请求
,
要求
传送
,
运送
命令
,
指令
选择
Select
Operation
作业
,
操作
Support
Process
Start
Comp.
支持
制程
开始
Completion
的缩写
,
意指完成
Batch
Lot
ID
(Identity)
Sheet
Chip
Inspection
Defect
Production
Hold
Release
Equipment
Tool
WIP (Work In
Process)
批量
指生产线上的在制品或产品
,
简称「货」
识别码
(
如
Lot ID or Chip ID)
片
(Array
区玻璃基版计数单位
)***
注
.
片
(Cell
区玻璃计数单位
)***
注
.
检验
缺陷
生产
留置在当站制程(如有品质问题时)
将
hold
住的货放行
,
释出
设备(简称为
EQP
)
工具
,
机台
在制品(制程在制品)
Maintenance
Cassette
Empty
Reserve
Report
Scrap
Rework
Log
on
Log off
Note
维修保养
装在制品的架子
***
注
.
空的
预约
报告
报废
重工
登帐
除帐
批注
5.
Array
段制程专有名词介绍
英
文
专
有
名
词
中文说明
Material
Metal
Target
MoW (Moly-
tungsten)
材料
金属
靶
钨化钼
Mo (Molybdenum)
钼
Al (Aluminum)
AlNd(Aluminum and Neodymium
Alloy)
Reticle or
Mask
Detergent
(LH-300)
铝
铝和钕的合金以上皆为溅镀机金属靶的材料之一
光罩
界面活性剂的一种(清洗机用来清洗玻璃表面用
LH-300
为供货商型号)
含
NH4F
与
HF
,为清洗机用来清洗玻璃表面氧化
层
的化学溶液
臭氧,主要为各制程用来清除有机物的污染或残留
乙酸正丁酯,主要用来清洗旋转涂布光阻时残留在
玻璃边缘的光阻液
光阻(简称
PR
)
LAL-50
O
3
(
Ozone
)
NBA
(1-butyl Acetate)
Resist or Photo Resist
HMDS
Hexamethyldisilazane
的简写,为一种化学中间体,
用以增加光阻涂布时对芯片表面之附着力
带静电防止剂(
ESD-
Preventer
),在上光阻机内使
用,防止静电产生,破坏玻璃组件
AC-1
TMAH (
供货商型号为
KTM-25)
Oxalic Acid (H
2
C
2
O
4
)
DHF
ITO-
Etchant
BHF
Al-Etchant
Tetra-
Methyl Ammonium Hydroxide
的简写,为厂
内所使用之显影液
草酸,湿蚀刻机中用来蚀刻
5PEP
中的
a-ITO
膜成
份为
49%
氢氟酸
HF
,主要为湿蚀刻机
中用来蚀刻
7PEP
中的
SiNx
膜
成份中含盐酸
HCl
及硝酸
HNO
3
,主要用来蚀刻
7PEP
中的
Poly-
ITO
成份中含氟化铵
NH4F<
/p>
及
HF
,主要用来蚀刻
< br> 7PEP
中
的
SiON
成份中含乙酸
CH
3
COOH
、磷酸
H
3
PO
4
及硝酸
HNO
3
,
主要用来蚀刻
Mo/Al/Mo
的沉积层
异丙醇
Isopropyl
Alcohol
的简称,主要用来作为设
IPA
p>
备擦拭液,在去光阻制程中亦用来清除玻璃基板上
的有机残留物(如
光阻或去光阻液)
N-300
(Process)
Gas
SiH
4
NH
3
N
2
O
PH
3
N
2
去光阻液,
N-300
为厂商型号,
成份为单乙醇铵
与单丁醚的混合物
(
制程
)
气体
目前大多数种类的气体,多为提供
CVD
,
Sputter
及干蚀刻电浆源之用
硅甲烷
制程气体(泄漏有爆炸危险)
氨
制程气体
笑气
制程气体
磷化氢
制程气体
氮气
制程气体,常用为破真空
Vent
或吹干的媒介
H
2
NF
3
氢气
制程气体
氟化氮
制程气体,
常用为清除
CVD
反应室壁沉
积硅
Si
媒介
氪气
制程气体,用来轰击溅镀机上的金属靶
氩气
制程气体,
用来轰击溅镀机上的金属靶或
常用为加热设备的热传媒介
常用来作电浆的基本组成,
氯化硼
制程气体,在干蚀刻中用以作为蚀刻
AlNd
的电浆源
氟化硫
制程气体,
常用的主要干蚀刻电浆源以
为提供蚀刻主原料氟的来源
氦气
制程气体,
混合在其它制程气体中,共同
形成电浆源,使电浆组成分布均匀
氯气
制程气体
氯化氢
制程气体,蚀刻
n+
时的电浆源之一
四氟化碳
制程气体,
常用的主要干蚀刻电浆源
以为提供蚀刻主原料氟的来源
机台
(
仪器
)
厂商
清洗机
***
注
.
化学气相沉积
***
注
.
溅镀机
***
注
.
上光阻机
***
注
.
预烘
***
注
.
步进式曝光机
***
注
.
曝光
背面曝光
Kr
Ar
O
2
BCl
3
SF
6
He
Cl
2
HCl
CF
4
Equipment
Vender
Cleaner
CVD
(Chemical Vapor Deposition)
Sputter
Coater
Pre-
bake
Stepper
Exposure
Backside-Exposure
Titler
刻号机,厂内部分的显影机具有此功能,
将玻璃基
板的
Chip ID, Glass ID
及
Veri-
Code
曝出,以为人
员
及机台办认之用
简称
ER
,指在旋转涂布光阻后,用
NBA
洗净残留
在玻璃边缘的光阻
边缘曝光,指在显影前将玻璃基板边缘光阻较厚的
Edge Remover
Edge Exposure
部分再曝光,
以防曝光量不足,
造成光阻在显影后
残留
Developer
Hard
bake
Etcher
Wet Etch
显影机
***
注
.
硬烤
***
注
.
蚀刻机
湿蚀刻
***
注
.