-
.word
可编辑
.
英文专有名词介绍
1.
General (
一般专有名词
)
英
文
专
有
名
词
LCD (Liquid Crystal Display)
Glass, substrate or glass substrate
TFT(Thin Film Transistor)
Panel
Array
中
文
说
明
(
p>
数字表示有详注
)
液晶显示器
*
注
.
玻璃基版
*
注
.
薄膜晶体管
*
注
.
面板
排列
,
指在玻璃基板上做
TFT
的制程
LCD
-Array
Cell
液晶填充制程
…….
分为
LCD
-FE
OL
(
Cell
前段
< br>)
LCD
-BEOL
(
Cell
后段含
Ce
ll Tester
)
Module
模块
,
指后段组装制程
LCM
Monitor
Pixel
监视器
像素
*
注
.
XGA
:
e
X
tended
G
raphics
A
rray=1024*768Pixels
PS.
像素越多表示分辨率越高
SXGA
:
S
uper XGA=1280*1024Pixels
Computer
计算机
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
Notebook
RGB (Red, Green,
Blue)
PM (Preventive Maintenance)
Quality
Standard
Material
Yield
CIM (Computer Integration
Manufacturing)
笔记型计算机
(
简称为
NB
)
指红绿蓝三原色
预防保养
品质
标准
(
指作业标准或质量指针
)
材料
良率
计算机整合制造
(
指以计算机系统整合
制造
流程
)
FA (Factory Automation)
Exit
Precaution
Warning
Emergency
Alarm
工厂自动化
出口
预防措施
警告
紧急
警报
2. Clean Room
(
洁净室专有名词
)
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
英
文
专
有
名
词
Clean room
Particle
HEPA (High Efficient Particulate Air)
filter
Contamination
Temperature (TEMP)
Humidity
Pressure
UPW (Ultra-Pure
Water)
DIW (De-Ionized Water)
IPA (Isopropyl Alcohol)
Sticky mat
Cleanliness
ESD (Electro-static Discharge)
Laminar flow
Turbulent flow
Alcohol
Acetone
Particle
洁净室
***
p>
注
.
微粒子
**
*
注
.
中
文
说
明
高效能粒子空气过滤网
污染
温度
湿度
压力
超纯水
去离子水
异丙醇
脚踏黏垫
***
注
.
洁净度
静电破坏
***
注
.
层流
(
流体力学名词
)
扰流
(
流体力学名词
)
酒精
丙酮
微粒子
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
Dust
Gowning room
Raised floor (grating floor)
Air shower
Prohibit
Clean suit (bunny suit, dust-free
garment)
Glove
Hairnet
Hood
Mask
Clean
shoes (dust-free shoes, boots)
灰尘
换衣间
***
注
.
高架地板
***
注
.
气浴室
***
注
.
禁止
无尘衣
***
注
.
手套
网帽
头罩
口罩
无尘鞋
3. Factory
Automation
(
工厂自动化专有名词
)
英
文
专
有
名
词
Vehicle
AGV (Automatic
Guided Vehicle)
MGV (Manual Guided
Vehicle)
Clean lifter
LIM
(Linear Induction Motor) Carrier
OHS
(Overhead Shuttle)
中
文
说
明
运输工具或载具
自动搬运车
人力搬运车
天井传送车
线性感应马达传送载具
天车或称轨道车
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
Stocker (clean depot)
Battery
Bay
Bumper
Charger
Controller
Conveyor
Crane
FFU (Fan Filter Unit)
Host
I/O (Input / Output)
Inter-bay
Intra-bay
IR (Infra-Red)
IRIF(Infra-
Red InterFace)
Load
Unload
Magnetic tape
POSEIDON
存放
Cassette(
架子
)
的暂存区
电池
作业区
保险杠
充电器
控制器
输送带
吊车
(
在
Stocker
内
)
风扇过滤器
主机
输入
/
输出
作业区和作业区之间
作业区之内
红外线
红外线界面
进料
卸货
AGV
路径所使用的磁条
海神生产操作系统
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
Retrieve
RTM (Rotary
Transfer Machine)
SCARA arm
Reset
Transportation
【
计算机
】
检索
,
撷取
(
数据
)
旋转传送机
AGV
之传送手臂
重新设定
传输
*
注
.OPI(Operation
POSEIDON
Instruction)
海神生产操作系统专有名词介绍
英
文
专
有
名
词
Recipe
Stock out
Request
Transfer
Instruction
Select
Cancel
Operation
Support
Process
Start
Comp.
程序
,
制程参数
将
p>
Cassette
取出
请求
,
要求
传送
,
运送
命令
,
指令
选择
取消
作业
,
操作
支援
制程
开始
Completion
的缩写
,
意指完成
中
文
说
明
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
Batch
Lot
ID
(Identity)
Sheet
Chip
Inspection
Defect
Production
Hold
Release
Equipment
Tool
WIP (Work In Process)
Maintenance
Cassette
Empty
Reserve
Report
Scrap
批量
指生产在线的在制品或产品
p>
,
简称
「
货
」
识别码
(
如
Lot ID or Chip ID)
片
(Array
区玻璃基版计数单位
)
***
注
.
片
(Cell
区玻璃计数单位
)***
注
.
检验
缺陷
生产
留置在当站制程
(
如有质量问题时
p>
)
将
hold<
/p>
住的货放行
,
释出
设备
(
简称为
EQP
)
工具
,
机台
在制品
(
制程在制品
< br>)
维修保养
装在制品的架子
***
注
.
空的
预约
报告
报废
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
Rework
Log on
Log
off
Note
重工
登帐
除帐
批注
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
5. Array
段制程专有名词介绍
英
文
专
有
名
词
Material
Metal
Target
MoW (Moly-tungsten)
Mo (Molybdenum)
ITO (Indium
Tin Oxide)
Al (Aluminum)
AlNd(Aluminum and Neodymium Alloy)
Reticle or Mask
材料
金属
靶
钨化钼
钼
铟锡氧化物
铝
铝和钕的合金以上皆为溅镀机金属靶的材料之一
光罩
界面活性剂的一种
(
清洗机用来清洗玻璃表面用
Detergent
(LH-300)
LH-300
为供
货商型号
)
含
NH4F
与
HF
,
< br>为清洗机用来清洗玻璃表面氧化
LAL-50
层的化学溶液
臭氧
< br>,
主要为各制程用来清除有机物的污染或残
O
3
(
Ozone
)
留
乙酸正丁酯<
/p>
,
主要用来清洗旋转涂布光阻时残留
NB
A (1-butyl Acetate)
在玻璃边缘的光阻液
Resist
or
P
hoto
R
esist
.
专业
.
专注
.
中
文
说
明
p>
光阻
(
简称
PR<
/p>
)
.word
可编辑
.
Hexamethyldisilazane
的简写
,
为一种化学中间
HMDS
体
,
用以增加光阻涂布时对芯片表面之附着力
带静电防止剂
(
ESD-Preven
ter
),
在上光阻机内
AC-1 <
/p>
使用
,
防止静电产生
,
破坏玻璃组件
Tetra-
Methyl Ammonium Hydroxide
的简写
,
为
TMAH
(
供货商型号为
KTM-25)
厂内所使用之显影液
Oxalic
Acid
(H
2
C
< br>2
O
4
)
草酸
,
湿蚀刻机中用来蚀刻
5PE
P
中的
a-ITO
膜
< br>
成份为
49%
氢氟酸
HF
,
主要为湿蚀刻机中用来蚀
DHF
刻
7PEP
中的
p>
SiNx
膜
成份
中含盐酸
HCl
及硝酸
HNO
3
,
主要用来蚀刻
IT
O-Etchant
7PEP
中的
Poly-ITO
p>
成份中含氟化铵
NH4F
及
HF
,
主要用来蚀刻
7PEP
BHF
中的
SiON
成份中含乙酸
CH
3
COO
H
、
磷酸
H
3
PO
4
及硝酸
Al-Etchant
HNO
3
,<
/p>
主要用来蚀刻
Mo/Al/Mo
的沈积层
异丙醇
Isopropyl Alcohol
的简称
< br>,
主要用来作为
IPA
设备擦
拭液
,
在去光阻制程中亦用来清除玻璃基
板上的有机残留物
(
如光阻或去光阻液
)
去光阻液
,
N-300
为厂商型号
,
成份为单
乙醇铵
N-300
与单丁醚的混合物
.
专业
.
专注
.
.word
可编辑
.
(
制程
)
气体
…
目前大多数种类的气体
,
多
为提供
(Process) Gas
CVD
< br>,
Sputter
及干蚀刻电浆源之用
< br>
SiH
4
NH
3
N
2
O
PH
3
硅甲
烷
……
制程气体
(
泄漏有爆炸危险
)
氨
……
制程气体
笑气
p>
……
制程气体
磷
化氢
……
制程气体
< br>氮气
……
制程气体
,
常用为破真空
Vent
或吹干的媒
N
2
介
H
2
氢气<
/p>
……
制程气体
氟化氮
……
制程气体
,
常用为清除
CVD
反应室壁沈
NF
3
积硅
Si
媒介
Kr
氪气
……
制程气体
,
用来轰击溅镀机上的金属靶
氩气
……
制程气体
,
用来轰击溅镀机上的金属靶或
Ar
常用为加热设备的热传媒介
O
2
常用来作电浆的基本组成
,
氯化硼
……
制程气体
,
在干蚀刻中用以作为蚀刻
BCl
3
p>
AlNd
的电浆源
< br>氟化硫
……
制程气体
,
常用的主要干蚀刻电浆源以
SF
6
为提供蚀刻主原料氟的来源
He
.
专业
.
专注
.
氦气
……
制程气体
,
混合在其它制程气体中
,
共同
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