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氮化镓半导体材料

作者:高考题库网
来源:https://www.bjmy2z.cn/gaokao
2021-02-02 07:56
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2021年2月2日发(作者:sole什么意思)


氮化镓半导体研究





物理背景




20


世纪


6 0


年代,发光二极管


(Light Emitting Dio de



LED)


的发

< br>展非常迅速,它具有体积小、耐冲击、寿命长、可靠度高与低电压低


电流操作等优 良的特性,适用于在各种环境的使用,而且符合未来环


保节能的社会发展趋势。初期的以 砷化镓


(GaAs)


、铝铟磷镓


(AI GalnP)


材料为基础之发光二极管,实现了红光至黄绿光波段的电激发光。



近年来,以氮化镓


(GaN)


为代表的新一代半导体材料技术上



氮化镓半导体材料 具有禁带宽度大、击穿电场高、电子饱和漂移


速度高、介电常数小、抗辐射能力强和良好 的化学稳定性等独特的特


性,在光显示、光存储、光探测等光电子器件和高温、高频大功 率电


子等微电子器件领域有广阔的应用前景,其中最引人瞩目的是作为发


光材料的应用,由于氮化镓能与氮化铟


(INN)


和氮 化铝


(AIN)


形成三元


或四元化合物 ,


如此借着改变


IlI


族元素的比例,


便能使发光波长涵盖


红外光到紫外光的范围,另外将发蓝光的氮 化镓基发光二极管配以可


激发出黄绿光的荧光粉,从而混合发出白光,应用前景非常广泛 ,除


了应用于指示灯、灯饰、手电筒等普通市场,氮化镓基发光二极管还


应用于手机及手提电脑背光源、交通灯、户外全彩显示屏等市场,但


氮化镓基发 光二极管最有前景的应用还是在普通照明市场。



二.


GaN


的应用



高效节 能、


长寿命的半导体照明产品正在引领照明业的绿色变革。


随着 第三代半导体材料氮化镓的突破和蓝、绿发光二极管的问世,世


界各国纷纷投入巨资推出 国家级半导体照明计划。




GaN< /p>


属宽禁带半导体,直接带隙


3



4eV


,在长寿命、低能耗、短长


半导体发光二 极管


(LED)



激光二极管


(LD)



紫外探测器以及高温微电

< p>
子器件等方面有广阔的应用前景


,GaN


器件的广 泛应用将预示着光电信


息乃至光子信息时代的来临,


因此,



GaN


为代表的第三代半导体材料


被誉为信息产业新的发动机。


GaN


基半导体 材料,


包括


GaN


< br>A1N



InN



都是直隙半导体材料,


因而有很高的量子效率。


用< /p>


GaN



A1N



InN


这三


种材料按不同组份生成的 固溶体,其禁带宽度可在


O



7eV< /p>



6



2eV< /p>



间变化。这样,用这些固溶体制造发光器件,是光电集成材料和 器件


发展的方向,其主要应用领域包括:


(1)


当前在国内外非常受人瞩目的半导体照明是一种新型的高效、


节能和环保光源,


将取代目前使用的大部分传统光源,


被称为


21


世纪


照明光源的革命,而< /p>


GaN


基高效率、高亮度发光二极管


(L ED)


的研制


是实现半导体照明的核心技术和基础。以


LED


为代表的半导体光源,


具有节能、长寿命 、免维护、环保等优点,目前己被广泛的应用于大


屏幕平板显示和交通信号灯以及显示指 示灯,并逐渐向通用照明领域


发展,目前实验室水平的白光


LE D


发光强度已经达到


131 lm



w





2



CD< /p>



DVD


的光存储密度与作为读写器件的 半导体激光器的波长


的平方成反比,目前流行的


CD

< p>


DVD


的激光读写头分别采用波长为

< p>
780nm



650nm



AIGaAs



AIGalnP


材料,


存储容量分别为


700MB



4



7GB



若用波长为


410rim


InGaN



GaN

< p>
蓝光激光器代替,光盘的存储容量将


高达


27GB


,将会成为光存储和处理的主流技术。




3


)适合制作紫外探测器件。当在强可见光和红外辐射背景 中探


测紫外信号时,要尽量避免或减少紫外信号以外的背景信号干扰。以


GaN


做成的紫外探测器,


克服了

Si


探测器在紫外波段探测效率低、


需要

< br>复杂的滤光系统等弱点。


而氮化物特别是


AIGaN



可以制成日光盲紫外


探测器,其截止波长 为


200



356nm


。在这个范围的探测器可以用于火


焰探测、


燃烧诊断、


光谱学和紫外监视,


AIGaN


探测器 还有重要的军事


用途,可用于导弹制导和导弹预警防御系统。



(4)


由于


GaN

基材料有禁带宽度大、


击穿电压高、


电子饱和速率高、


热稳定性好、抗腐蚀性强等优点,被广泛用于制作高电子迁移率晶体


管、双极晶体管、场效应晶体管等微电子器件,适合在高温、大功率


及恶劣环境下工作< /p>


?


11



高温、


高频、


高功率微波器件是无线通信、



防等领域急需的电子器件,如果目前使用的微波功率管的输出功率密

度提高一个数量级,


微波器件的工作温度提高到


300


℃,


将解决航天航


空用电子装备和民用移动 通信系统的一系列难题。




.GaN


的制备方法



3.1


由于


GaN


体单晶非常难以获得,即便是已有一些研究 报道对


GaN


体单晶


生长取得了一定进 展,但它们的质量还无法达到作衬底的要求。因此


现今对


GaN


的研究都集中在以异质材料


(



A1203



SiC



Si



)


为 衬底的


外延生长薄膜上。随着异质外延技术的进步,现在已经可以在特定的


衬底材料上外延生长获得质量优良的


GaN


外延层, 这也使得


GaN


材料体


系的应用得到了 迅速发展,


异质外延技术成为了制备


GaN

薄膜的主要方


法。



3.1


生长工艺


GaN


的外延生长一般有以下几种工艺:金属有机化学气相沉积

(Metal


OrganicChemical Vapor Deposition)


,分子束外延


(Molecular Beam


Epitaxy)


,卤化物气相外延


(Hydride


Vapor


Phase


Epitaxy)


,此外还


有比较新颖的横向 外延过生长


(LateralEpitaxially Overgrown)


以及


悬空外延


(PE)


等工艺。


其中


MOCVD


< p>
MBE


是制各


GaN


及其 相关多层结构薄


膜的两大主流技术,它们各有独自的特点。然而从实用商品化技术方

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