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一……
学,到莫斯科钢铁学院物理化学系学习,历时
五年半,获冶金工程师称号。1960年取得学
位的他立即回国,被
分配到位于沈阳的中国
科学院金属研究所工作。当时,新中国百废
< br>待兴,东北无论工作条件或生活条件都十分
艰苦,但立志科学报国的闻立时对此
却全然
不顾,他毫不动摇地扎根于此,并度过了此
后整整半
个世纪的人生历程。
闻立时于1979年到1981年获西德马普奖学
金,在马普金属研究所粉末冶金实验室作博
士后访问学者;
l988年和1989年先后两次赴奥
地利科学院固体物理研究所作访问学者;
1994年到德国夫琅和费表面涂层物理研究所
作
访问学者;1996年在美国华人的ANC公司
担任总工程师和科技顾问。
闻立时院士还担任了中山大学/太阳能系
统研究所学术
委员会主任、华南理工大学、
西北工业大学、北京科技大学、兰州大学
、
华中科技大学/武汉光电国家实验室教授、中
南大学名誉教授、中南大学物理和技术学院
首席教授、大连理工大学材料学院院长
、三
束材料改性国家重点实验室学术委员会主
任、电子科技
大学电子薄膜与集成器件国家
重点实验室学术委员会主任,微电子材料与
器件集成国家重点实验室学术委员会主任、
天津大学先进
陶瓷与加工技术教育部重点实
验室学术委员会主任、中国科学院金属研究
所学术委员会委员。英国表面工程(
Sur
face
Engi
neer
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ng)国际顾问委 员会委员、Asi
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h国际委员会成员、国家自 然科学基
金委员会材料与工程科学部评审委员会委
员、中国
空间学会理事及空间材料专业委员
会副主任、中国金属学会理事及材料学会理
事、中国离子表面优化协会副理事长、中国
真空学会理事、中国机械
工程学会表面工程
分会副主任委员、中国表面工程协会热喷涂
分会理事、全国金属和非金属覆盖层标准化
技术委员会副主任委员,军用表面工程国
防
重点实验室学委会委员、教育部先进陶瓷开
放实验室学术
委员会主任、“十一五”国家
重大安全基础研究项目“纳米电子信息功能
材料”项目专家组组长、
“973高性能碳/碳
201<
/p>
2年第9卷第2期
(总第47期)
复合材料”项目专家组成员。他还是
《无机
材料学报》、<
/p>
《硅酸盐学报》、
《薄膜科学
与技术》编委、国家高
技术863—409主题第七
专题专家论证组成员,湖南省院士顾问团成
员、深圳太阳能学会荣誉理事长。
二、主要研究领域和学
术成就
在小型火箭发动机喷管耐高温涂层、返地
卫星回收天
线耐高温涂层、潜一地导弹遥测
天线耐高温涂层、战略和战术弹道弹头隐身
材料等项目研发方面作出了重大贡献,先后
荣获国家科技进步奖特等奖
和三等奖各1项、
中科院科技进步奖一等奖和三等奖1
项、辽宁
省重大科技成果奖2项,并被评为国家“863计
划”项目七五先进个人、中科院重大科研项
目先进个人、国家军品配套重点科研计划项
目先进个人、国家级有突出贡献的专家、辽
宁省及沈阳市优
秀专家。此外,还研制出具
有九十年代先进水平的工业型离子镀和磁控
溅射镀膜机;完成了镍铬铝钇抗热腐蚀镀层
等多项中试及一台份工业燃气轮
机和四台份
航空发动机共1440只叶片的镍铬铝钇镀层任
务,实现了工业化生产,并经检查合格已装
机使用;在国家自然科学基金重大项目中,
完成了气相生长金刚石辐照场和流场传热模
拟计算、实验验证及工业反应器设计原理研
究,申报专利三项,推进了金刚石膜的实用
化,在国家验收中被评为特优。
(一)提出
了纳米复合隐身原理,并研制
出高性能隐身材料
1.开创性
地提出纳米复合隐身材料的学
术思想、微观物理模型和基本理论框架。其
内容主要包括以下7方面:
(1)吸收电磁波的前提条件
有二:一是
电磁波进入材料;二是材料具有高效电磁波
能量
转化机制。纳米复合隐身材料的学术思
想认为:上述两个前提条件是利用材料纳米 <
/p>
结构的低维效应和纳米复合效应来实现的。
(2
)利用超薄金属膜的经典透射效应、
电导率经典尺寸效应和量子尺寸效
应及量子
渗流等低维效应,可使电磁波充分进入材
料,以便
材料的吸波机制得到充分发挥;
(3)提出并分析了纳米结构电磁波响
应
振动膜的物理模型。指出:雷达波的吸收有
赖于纳米结构
具有的等离子体共振、等离子
体界面波激发和衰减、纳米铁磁共振、纳米
铁电共振等机制的作用;
(4)分析了纳米结构电磁响应
模的频谱
特性后认为,通过选择合适的纳米结构特征
尺寸,
调节低维材料的表观电子浓度和改变
其等离子体共振频率,可移动峰位,调节带
p>
宽和增加峰数;
(5)分析研究了材料电子体系/
行波场耦
合物理模型、耦合方程及影响能量转化效率
的特征
条件参量,其中包括电子一行波场同步
性、材料色散特性、内场强度及耦合阻抗
p>
等。认为,通过纳米结构设计可调节波一场耦
合和波一波耦合条件
,从而提高材料的吸波效
率;
(6)分析杂
化复合相关的异质内场耦合
后发现,通过纳米/微米杂化复合,可增强材
料的吸波效果;
(7)通过控制纳米膜界面分形维数及其
特征码尺的合理取值范围,在提高红外漫反
射率的同时,减
少红外比辐射率和红外镜反
射率,可降低目标红外特征信号强度。
< /p>
2.设计并完成了关于超薄金属膜电磁波
透射率、纳米膜电导率
经典尺寸效应及纳米
复合吸波等三项原理的验证实验,肯定了上
述纳米复合隐身学术思想的正确性。
3.设计并研制出
和
“纳米膜/涂料杂化复合 吸波层”两系列纳
米复合隐身材料,其面密度低、厚度薄、吸
Scientist
Bio
收频带宽,特别是其长波频段的高吸收
率,
大大优于传统隐身材料,完成了多种导弹型
号的隐身应用技术研究,达到了任务指标要
求,通过了航天部和中科院组织的联合
鉴
定,并立项正式用于相关型号的武器。随
后,又通过改进
选材,提高了吸波层的耐温
性,使其在加热后,其主动段的吸波性能不
会降低。
闻立时院士提出的纳米复合隐身材料的微
观原理,对研发高性能隐身材料及其它电磁
功能材料具有普遍而重要
的指导意义,为我
国研究小型化战略弹头和先进战术弹头突防
提供了一条有效途径,在该学科领域居开创
性的领先地位。以上成果获得了中国科学
院
科技进步奖一等奖和中国航天工业总公司科
技进步奖二等
奖。
(二)研制出热喷涂/涂料复合耐高温系
列涂层
1.研究并制备了电弧等离子喷涂设备和
工艺技术
;并根据火箭发动机的工作条件,
设计了等离子喷涂金属/陶瓷混合复
合、多层
复合及杂化复合等方案;研制成耐高温抗冲
刷隔热
系列涂层,应用于导弹发动机尾喷
管,达到了关于抗热震、抗冲刷、隔热和性
能稳定性等方面的技术指标,获1977年辽宁
省重大科技成果奖<
/p>
(电弧等离子体发生技术
及其在表面涂层上的应用)。
2.根据卫星再入的工况条件,提出了等
离子喷涂陶瓷层与陶
瓷涂层复合防护层方
案,研制出返地回收卫星天线耐高温涂层,
p>
其防护效果良好,保证了卫星返回地面过程
中的通讯联系。获1<
/p>
977年辽宁省重大科技成
果奖(
耐高温抗冲刷隔热电绝 缘涂层)、1986年
国家科技进步奖特等奖(
返回地面人造卫星)。
3.研制成功中速率遥测热天线防护涂
层,
在热流比返地卫星天线高出50%的苛刻条
件下,其防护效果仍然良好,从而确保了导
弹飞行弹道测量的成功。获1
986年国家科技
进步奖三等奖(
中速率遥测热天线)。
(三)对脉
冲偏压技术进行了理论创新与
应用创新
1.提出了二十世纪
末的先进技术之
201
2年第9卷第2期
< p>(总第47期)
科
早
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Scientist
Bio ̄raoh p>
一
一
一
具有传统电弧离子镀不可比拟
的功能
优势的脉冲偏压电弧离子镀技术
闻院士带领团队在国
际上首先采用脉冲偏
压电弧离子镀技术研制出叶片防护涂层,并
在三个型号上得到了应用。与此同时,还对
脉冲偏压电弧离子镀技术的原理和镀膜
结构
进行了研究,揭示出脉冲偏压电弧离子镀过
程的远离平
衡态特征,以及由此带来的降低
沉积温度、降低涂层内应力、提高结合强度
等良好效果。在此基础上,还研制出了适合
于叶片防护涂层工业生产的
脉冲偏压电弧离
子镀设备。与国外同类设备相比,该设备具
有脉冲偏压电压高、占空比低、非对称双极
向特性、产品合格率高、产率高、成本低等
优点,实现了跨越式发展与赶超国外。
2.
利用脉冲偏压技术的工艺和设备制备
出等离子体平板显示器
(PDP) 的MgO保护膜
层
制备应用于等离子体平板显示器(
PDP)的
氧化镁(
MgO)保护膜层的目的,是为了使之有
更强的耐等离子体腐蚀的能力,有效地降低
生产成本,以达
到制备出1:l的PDP玻璃前板
保护层的预产业化的目标。这个项目难度
高。为解决氧化镁(
MgO)保护膜层难以制造的
问题
,闻院士提出了用脉冲偏压电弧离子镀
技术制备基于PDP应用的MgO保护层的问题
。
为此,他开展了一系列有关研究,其中包
括:脉冲偏压电源的特性优化、工作稳定性
的改进;磁场参数的设计与优化,特别是沉
积速率与薄膜生长质量之间的协调;Mg离子
的氧化态的控
制和掺入杂质的选择控制
(包
括引入氧气的量、位置及其分布等)。<
/p>
结果表明,提高MgO膜的均匀性和致密
性,
细化颗粒,可更有效地耐等离子体腐
蚀;用于制备MgO保护膜的脉冲偏压电弧离 <
/p>
子镀设备,既能面向生产,又能兼顾科研;
控制
镁的氧化态及氧化镁薄膜的生长形态,
并选择和控制适当的杂质,可提
高二次电子
发射率、降低启动电压。
为使上
述研究项目产业化,闻院士同时研
制出了面向产业化的脉冲偏压电弧离子镀膜
设备。用这种先进的镀膜设备制备的保护
瓣
201
2年第9卷第2期(总第47
期)
< p>
膜,不但具有离化率高(>90%)、瞬间能量密
度高、平均能量密度低
等优点,而且可提高
能量利用率,同时还可降低镀膜过程中基底
的温度,从而降低由于膜与基底热膨胀系数
的差异所造成界面应力,使膜层与基底
的结
合更牢固。把电弧离子镀技术应用于MgO薄
膜的制备
上有其独特的优势,至今未见他人
报导。面向规模化生产的镀膜设备也是本项
目的创新点之一。由于目前国内还没有自主
研制的镀MgO膜的生产
线,亦没有掌握相关
的关键技术,因此进口设备的价格昂贵。
闻院士针对脉冲偏压电弧离子镀在工艺开
发中出现的一系列至关重要
的基础理论问题
和技术问题进行了系统的研究,其中,包括
脉冲偏压电弧离子镀的等离子体负载特性研
究、沉积温度的计算预测、大颗粒净化机制
研究和绝缘薄膜沉积的可行性研究等,其目
的是大大拓展电
弧离子镀的功能范围,促进
离子镀新技术的发展,同时进一步丰富离子
镀的基础理论。
闻院士带领团队针对脉冲偏压电弧离子镀
的工艺基础开展了一系列研究;并将脉冲偏
压多弧离子镀工艺
广泛应用于高速钢基体;
另外还对PBAI
P沉积Ti
N薄膜的低温沉膜机制
进行了系统的研究,也同样证实了脉冲偏压 <
/p>
电弧离子镀具有明显的低温沉积效应。与直
流偏压相比,尽管脉
冲偏压使沉积温度降
低,但薄膜的结合力、硬度等力学性能并不
下降,其综合性能甚至在一定程度上得以提
高。此外,还对脉冲偏压下的基体沉积
温度
进行了力学计算和预测。在能量平衡原理的
基础上,建
立了脉冲偏压多弧离子镀基本沉
积温度的理论计算模型。用该模型计算出的
沉积温度与实测温度吻合较好。在既定设备
上,根据沉积温度的计算模
型,可通过改变
脉冲偏压参数来实现对温度的预测与控制。
闻院士领导的团队在相应的基体上沉积了
Ti
/Ti< /p>
N多层薄膜,证实了用脉冲偏压多弧离子
镀沉积多层薄膜的可行性。同时
,他们通过
改变偏压幅值,有效地控制了Ti
NbN三元硬质
薄膜的相结构和组成;并在此基础上,通过
交替改变偏压幅值,制备
了呈多层结构的薄
膜,其硬度可高达37.3GPa。
3.提出了纳米多层膜的微观物理模型和
基本理论框架
< br>闻院士的研究结果包括基本理论框架和纳
米结构低维组元本构特性尺寸效应两方
面。
首先,作为金属/电介质纳米多层膜微观原理
< br>研究的阶段性结果,他提出了纳米多层膜电
磁工程的微观原理框架,其要点包括
:产生
EMR的前提、低维导电膜的经典透射效应、
EMR模式类型、EMR模式的等离子体模型、
EMR模的能
量转化效率漫波理论分析、低维
材料本构特性的尺寸效应等。在EMR模式类
型中,讨论了金属/电介质纳米多层膜中四种
可能的EMR模式,它
们是等离子体共振、等
离子体界面波共振、纳米铁磁共振、纳米铁
< br>电共振。通过与已有文献论述的比较不难看
出,上述微观原理框架是在国内外首
次系统
地揭示了纳米结构电磁功能的微观物理机
制。
闻立时院士于l986年研制出Ti
—B—N系纳米
相耐磨涂层;1987年开始研制纳米多层膜电
磁功能材料,并于1
990年取得了原理性突
破,进入实用化阶段;1993年研制出纳米多
层膜耐磨涂层;1998年研制出纳米多层膜耐
腐蚀涂层。1997年,
他根据固体物理、等离
子体物理、电子学和电磁场理论,分析了金
< br>属/电介质纳米多层膜体系的电磁工程的微观
原理,提出了其基本理论框架。同
时,还进
行了本构特性尺寸效应的实验研究。在开展
理论研
究的同时,金属/电介质纳米多层膜体
系的应用研究,亦取得了显著成效。总之,
p>
无论在理论框架的指导金属/电介质纳米多层
膜
的研发,还是在纳米多层耐磨耐蚀膜探索
与制备等方面,都取得了很显著的效果,同
科
芋
承
1专
S
Cientist
BiOgraphy
一
时还进一步扩大了它们的应用领域和拓宽了
发展前景。
多层膜现己成为发展高强度表面层材料的
新
途径,它作为耐磨、耐腐蚀涂层已开始大
量进入市场;在发展耐冲蚀、耐空蚀、抗冲
击等高难度重载荷高性能涂层中,占有重要
地位。特别是纳米
复合多层膜,这是一个应
用前景广阔、潜力很大的领域,但难度很
< br>高,因此有必要结合重大应用背景进行深入
的高水平的研究。
在沉积薄膜过程中,希望它沉积比较厚,
因此
,从应用性能和效果来考虑,薄膜越厚
越好。但是,薄膜过厚会带来许多问题,比 <
/p>
如致密度下降,结合强度变弱,杂质过多及
产生出位错使其性能
降低,从而影响到薄膜
作为防护涂层的效果。基于此,闻院士提出
< br>了采用多层膜代替单层膜的方法,运用多层
膜代替块体材料。他首先从理论上证
明了多
层结构膜代替块体材料具有许多优越性;然
后提出了
制造多层膜的路线、方案、工艺技
术等;最后再通过实验和实践证明多层膜的
优越性。用弹性常数相差尽可能大的两种组
元构成纳米多层结构,以
获得高强度材料的
模型。提高薄膜材料硬度、韧性、强度等力
学性能的方法,其物理机理是利用多层结构
的层界面来控制位错的运动。这种多层结
构
的单层厚度应当小到使位错源不能起作用,
从而抑制了位错在多层结构中的形成和运
动。因此,纳米多层结构的力学增强作用成
效明显。
利用透射电镜观察纳米薄膜结构的
难度很
大。1979年闻立时到西德马普金属研究所作
博士
后访问学者时,他刻苦钻研透射电镜技
术
(TEM),并成功地应用这 种技术来观察
分析多层膜横截面的组织结构。他利用图像
分
析仪测量
多层膜
的晶粒度,得到了
Ti
/Ti
N多层膜晶粒度与调制波长之间的直线关
系,并由此推断出晶粒
细化系因多层膜单层
厚度减少,导致晶核长大的空间受限所引起
等结论。多层膜中存在较强的界面效应,界
面共格或位错、界面粗糙度、界面清晰
度、
界面过渡层等,均可能对多层膜的力学性能
产生影响。
201
2
< p>年第9卷第2
期(总第47
期)辫